Titre de la production :Effects of Substrate Bias Voltage and Target Sputtering Power on the Structural and Tribological Properties of Carbon Nitride Coatings Année de production :2012 Langue de la production :Anglais Production réalisée au laboratoire :Oui Domaines scientifiques :SPI:MAT - MatériauxSPI:MECA - MécaniquePHYS:COND:CM_MS - Science des matériaux Mots-clés :Carbon Nitride ; coatings ; friction ; solid lubrication
Titre de la communication :Effects of Substrate Bias Voltage and Target Sputtering Power on the Structural and Tribological Properties of Carbon Nitride Coatings Type de communication :Communication orale
Type de l'événement :Conférence Nom complet de l'événement :9th International Conference on Flow Dynamics Nom abrégé de l'événement :ICFD 2012 Date de début :19/09/2012 Date de fin :21/09/2012 Ville de l'événement :Sendai Pays de l'événement :Japon Audience de l'événement :Audience scientifique internationale